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Plasma Science and Technology
eISSN: 2058-6272pISSN: 1009-0630
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3.1
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0.74
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グラフを見るジャーナル概要
概要
- 出版社IOP PUBLISHING LTD
- 言語English
- 発行頻度Monthly
基本情報
- 言語English
- 発行頻度Monthly
- 創刊年1999
- Publisher URL
- ウェブサイトURL
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公開までの時間
Time to publish distribution
2022年に発表された記事
Time to publish index
| ヶ月 | 論文発表 |
|---|---|
| 0-3 | 4% |
| 4-6 | 42% |
| 7-9 | 50% |
| >9 | 4% |
トピックス
Dielectric barrier discharge
Argon
Electron temperature
Electron density
Gas composition
Laser-induced breakdown spectroscopy
Germination
Simulation
Shock wave
Magnetic field
Atmospheric pressure
Pulsed plasma thruster
Aqueous solution
Plasma density
Corona discharge
Kinetic theory
Semiconductor plasma
Laser-induced fluorescence
Reactive oxygen species
Radio frequency
年刊
- 5Y
- 10Y
よくある質問
Plasma Science and Technology の創刊はいつですか。 
Plasma Science and Technology の創刊は 1999 年です。
Plasma Science and Technology の発行頻度は。
Plasma Science and Technology の発行頻度は Monthlyです。
Plasma Science and Technologyの出版社はどこですか。
Plasma Science and Technology の出版社はIOP PUBLISHING LTDです。
Plasma Science and Technologyの指標はEditage内のどこで確認できますか。
Plasma Science and Technology の主な指標はEditage内の本ページ上部で確認できます。
Plasma Science and TechnologyのeISSNとpISSN番号はなんですか。
Plasma Science and TechnologyのeISSN番号は2058-6272、pISSN番号は 1009-0630です。
このジャーナルのメインとぴっくはなんですか。
このジャーナルはDielectric barrier discharge, Argon, Electron temperature, Electron density, Gas composition, Laser-induced breakdown spectroscopy, Germination, Simulation, Shock wave, Magnetic field, Atmospheric pressure, Pulsed plasma thruster, Aqueous solution, Plasma density, Corona discharge, Kinetic theory, Semiconductor plasma, Laser-induced fluorescence, Reactive oxygen species, Radio frequencyを含むトピックに対応しています。
研究内容に合った適切なジャーナルを選ばなければならない理由は何ですか。
適切なジャーナルを選ぶことで、あなたの研究内容がもっと関連性が高い読者層に届き、研究のインパクトやその分野への貢献度を最大化させることができるからです。
どのジャーナルを選ぶかは今後のキャリアに影響を与えますか。
はい、著名なジャーナルから出版することは、あなたの経歴にもプラスに働くため、その後の助成金やキャリアプランにも影響があります。
よりハイインパクトのジャーナルを狙うべきですか。
ハイインパクトジャーナルから出版することはより多くの人の目に研究が触れることになりますが、同時に高い競争率の中から出版に漕ぎつける必要があります。そのため、インパクトファクターと出版にかかる工数のバランスを考慮するべきです。