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Plasma Sources Science and Technology
eISSN: 1361-6595pISSN: 0963-0252
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目的と範囲
Plasma Sources Science and Technology is an international journal dedicated solely to non-fusion aspects of plasma science. The Journal was founded in 1992 by Professor Noah Hershkowitz of the University of Wisconsin–Madison who also served as Editor-in-Chief until 2007. Mark J. Kushner of the Michigan Institute for Plasma Science and Engineering, University of Michigan took over the leadership of the journal until 2013 when Professor Bill Graham, Queen's University Belfast, became Editor-in-Chief. Professor Graham was followed by Professor Uwe Czarnetzki, Ruhr University Bochum, who became Editor-in-Chief in 2017. Professor Czarnetzki is actively involved in the peer-review of every paper. Less
主要な指標
CiteScore 
6.3
Eigenfactor
0.005 - 0.01
Impact Factor
< 5
Scite Index
0.94 5-Year SI
SJR
Q1Condensed Matter Physics
SNIP
1.53
4
Time to Publish
グラフを見るジャーナル概要
概要
- 出版社IOP PUBLISHING LTD
- 言語English
- 発行頻度Bi-monthly
基本情報
- 言語English
- 発行頻度Bi-monthly
- 創刊年1992
- Publisher URL
- ウェブサイトURL
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提供元
公開までの時間
Time to publish distribution
2022年に発表された記事
Time to publish index
| ヶ月 | 論文発表 |
|---|---|
| 0-3 | 12% |
| 4-6 | 53% |
| 7-9 | 24% |
| >9 | 12% |
トピックス
Plasma jet
Argon
Ion energy
Electron density
Dielectric barrier discharge
Distribution function
Amplitude
Simulation
Frequency
Atmospheric pressure
External circuit
Power absorption
Plasma density
Electric field
Joule heating
Infrared
Tantalum
Electron temperature
Voltage pulse
Boltzmann equation
年刊
- 5Y
- 10Y
よくある質問
Plasma Sources Science and Technology の創刊はいつですか。 
Plasma Sources Science and Technology の創刊は 1992 年です。
Plasma Sources Science and Technology の発行頻度は。
Plasma Sources Science and Technology の発行頻度は Bi-monthlyです。
Plasma Sources Science and Technologyの出版社はどこですか。
Plasma Sources Science and Technology の出版社はIOP PUBLISHING LTDです。
Plasma Sources Science and Technologyの出版方針と研究範囲はどこで確認できますか。
Plasma Sources Science and Technologyの出版方針と研究範囲は本ページ上部で確認できます。
Plasma Sources Science and Technologyの指標はEditage内のどこで確認できますか。
Plasma Sources Science and Technology の主な指標はEditage内の本ページ上部で確認できます。
Plasma Sources Science and TechnologyのeISSNとpISSN番号はなんですか。
Plasma Sources Science and TechnologyのeISSN番号は1361-6595、pISSN番号は 0963-0252です。
このジャーナルのメインとぴっくはなんですか。
このジャーナルはPlasma jet, Argon, Ion energy, Electron density, Dielectric barrier discharge, Distribution function, Amplitude, Simulation, Frequency, Atmospheric pressure, External circuit, Power absorption, Plasma density, Electric field, Joule heating, Infrared, Tantalum, Electron temperature, Voltage pulse, Boltzmann equationを含むトピックに対応しています。
研究内容に合った適切なジャーナルを選ばなければならない理由は何ですか。
適切なジャーナルを選ぶことで、あなたの研究内容がもっと関連性が高い読者層に届き、研究のインパクトやその分野への貢献度を最大化させることができるからです。
どのジャーナルを選ぶかは今後のキャリアに影響を与えますか。
はい、著名なジャーナルから出版することは、あなたの経歴にもプラスに働くため、その後の助成金やキャリアプランにも影響があります。
よりハイインパクトのジャーナルを狙うべきですか。
ハイインパクトジャーナルから出版することはより多くの人の目に研究が触れることになりますが、同時に高い競争率の中から出版に漕ぎつける必要があります。そのため、インパクトファクターと出版にかかる工数のバランスを考慮するべきです。